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公司简介 公司成立于2008年,注册资本12253.1446万元,2022年2月10日 于上海证券交易所登录科创板上市,股票代码:688261。
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公司的主要产品包括GreenMOS系列超级结MOSFET、SFGMOS系列及FSMOS系列屏蔽栅MOSFET、TGBT、SuperSi²C MOSSFET、SuperSi MOSFET、SiC MOSFET, 产品可广泛应用于以新能源汽车直流充电桩、车载充电机、光伏逆变器、储能、5G基站电源、通信电源、数据中心服务器电源、工业照明电源、电动工具、智能机器人、无人机、 UPS电源为代表的工业级及汽车级应用领域,以及以PC电源、适配器、TV电源板、手机快速充电器、电磁加热为代表的消费电子应用领域。

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SJ MOSFETs

为适应电源系统高效率小型化的需求,云顶4008集团官网推出了新型的GreenMOS系列高压MOSFET, 采用独特专利器件结构和制造工艺,GreenMOS产品具有比常规MOSFET更快的开关速度及更柔和的开关曲线,在获得极低的动态损耗的同时最大限度抑制了开关震荡,不仅可以大大提高系统效率、降低发热量,还可以简化系统EMI设计。

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SGT MOSFETs

云顶4008集团官网的SFGMOS系列MOSFET产品采用半浮栅结构,兼备了传统平面结构和SGT结构的功率MOSFET的优点,并具有更高的工艺稳定性和可靠性及更快的开关速度、更小的栅电荷和更高的应用效率等优点。SFGMOS系列MOSFET产品涵盖20V~200V全系列,可广泛应用于电机驱动、同步整流等领域中。

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IGBTs

云顶4008集团官网的IGBT芯片采用特有的Trident-Gate Bipolar Transistor (TGBT)器件结构,以得到更低的导通压降与更小的开关损耗。目前公司已先后推出第一代及第二代TGBT多个系列产品,涵盖600V~1700V电压,适合应用于光伏储能逆变、直流充电桩、汽车主驱、OBC、UPS等领域。公司亦开发出超高速系列TGBT,工作频率达到60-100KHz,可以在满足电源系统进一步高频化的同时,实现更高的效率。

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Trench MOSFETs

沟槽Trench MOSFET:性能可靠,值得信赖,通过大量的开发,我们持续不断地利用先进的小信号MOS和功率MOS解决方案扩充我们的产品组合。我们种类齐全的产品组合提供当今市场所需的灵活性,让您可以轻松选择最适合您系统的产品。我们的领先技术确保提供最高的可靠性和性能,而先进的封装则可以增强电阻和热性能,同时缩小尺寸,降低成本。

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Power Module

先进的电源模块, 包括 IGBT、MOSFET、SiC、Si/SiC混合模块、二极管、SiC二极管和智能功率模块。IGBT模块被运用于主驱和DC-AC级太阳能逆变器、能源储存系统、不间断电源和电机驱动等应用中。MOSFET模块用于汽车电机驱动和车载充电机应用,额定电压可选40 V、60 V、80 V和650 V,采用超级结技术和感应电阻。

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SiC MOSFETs

第三代半导体材料功率器件是未来高性能功率器件的重要组成部分之一。云顶4008集团官网研发团队在宽禁带半导体研究上有丰富的经验,研发了一系列SiC MOSFETs。

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GaN HEMT

氮化镓高电子迁移率晶体管(GaN HEMT)正日益成为主流市场的选择。针对各种高电压和低电压应用场景,GaN HEMT具备最快的转换/开关能力(最高dv/dt与di/dt)和最优异的能效表现。此外,云顶4008集团官网自研的GaN HEMT通过新颖的设计,降低导通损耗和开关损耗,进一步提升了功率密度。

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Power IC

当与电源串联时,OSP5050高侧OR-ing FET控制器与外部NMOSFET结合使用,作为理想二极管整流器。这个OR-ing控制器允许MOSFET取代配电网中的二极管整流器,从而减少功率损耗和电压降。

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应用领域
应用领域 云顶4008集团官网的产品应用领域广泛且具体。在汽车电子方面,深度布局电动化,涵盖车载充电、各类电控系统及热管理;在工业与能源领域,提供电池测试、光伏逆变及工业电源解决方案;同时,其产品也服务于消费电子​(如快充、电视)、家用电器​(如冰箱、吸尘器)、通信设施​(如数据中心电源)以及电机驱动​(如机器人、无人机、叉车)等多个关键行业。
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质量管理
质量管理 ISO9001 质量体系认证通过时间2016年01月11日,CNAS17025 实验室管理体系认证通过时间2025年03月03日。
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投资者关系
投资者关系 云顶4008集团官网致力于与投资者建立有效的沟通机制,通过透明、及时、准确的信息披露和沟通,帮助投资者全面、客观地了解公司的战略、经营状况、财务状况及未来发展前景,确保投资者能获得同等质量的信息,与投资者建立信任关系,从而使得公司的内在价值能够在资本市场上得到合理反映。
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半导体工艺:要做小也要做深

半导体工艺:要做小也要做深

发布时间:2020-02-03

阅读次数:124

集成电路发展有两大动力,一个是摩尔红利驱动的逻辑工艺,一个是市场细分驱动的特色工艺。今年年初,华虹集团旗下华虹无锡项目一期(华虹七厂)首批功率器件产品交付,标志着中国大陆最先进的12英寸功率器件平台成功实现量产。此前,积塔半导体特色工艺生产线正式搬入首台光刻机,厦门士兰12英寸特色工艺产线封顶并投产。一方面,世界前十的晶圆代工厂都对特色工艺有所布局,竞争压力不容小觑;另一方面,特色工艺长尾效应明显,市场碎片化且容量大,为我国半导体企业带来发展机遇。

 

强手林立不乏竞争

 

相比以线宽为基准的逻辑工艺,特色工艺的竞争能力更加综合,包括工艺、产品、服务、平台等多个维度。赛迪顾问分析师吕芃浩表示,特色工艺的竞争点在于工艺的成熟度和稳定性,工艺平台的多样性,以及产品种类的丰富程度。业内人士王笑龙表示,特色工艺主要比拼厂商的技术经验、服务能力和特殊化开发能力。

 

老牌IDM厂商,往往在产品设计能力占优。例如,英飞凌的IGBT已经做到650V,应用在电力电网、高铁汽车等领域,具有更高的电压阻断能力和稳定性。而国内许多IGBT厂商难以达到同等的电压阻断能力,聚焦在650V以下但附加值较低的消费电子领域。同样,对于晶圆代工厂商,能否在更低线宽做出同等性能的元器件,决定了厂商的工艺能力。虽然特色工艺不追求线宽,但线宽越低,就越能控制批量生产成本。

 

在拓墣产业研究院公布的2019年全球前十晶圆代工厂商中,排名第12位的台积电、三星等都在特色工艺有所布局;排名第3、4位的格芯和联电因为无力追赶先进制程步伐,分别在7nm节点和12nm节点中止了对制程节点的进一步开发,将主要精力转向特色工艺。高塔、东部高科、世界先进则侧重特色工艺,目前高塔RF-SOI、RF-CMOS等射频元器件,以及BCD、CIS已经进展到65nm进程。

 

“台积电等大厂也重视特色工艺,由于其体量庞大,即使投入相对小比例的资源到特色工艺,也不容小觑。国内厂商做特色工艺从来不缺乏竞争。”王笑龙说。

 

8英寸向12英寸迈进

 

从6英寸迈向8英寸,从8英寸迈向12英寸,是晶圆代工的大方向。2019年,无锡SK海力士二厂竣工投产,预计完全达产后将月产18万片12英寸晶圆。华虹七厂12英寸生产线月产能规划为4万片,面向移动通信、物联网、智能家居、人工智能、新能源汽车等新兴应用领域的中高端芯片需要。粤芯半导体12英寸芯片生产线投产,采用130nm~180nm的平台工艺,围绕“产品差异化工艺制程”,锁定高端模拟芯片、汽车电子、生物医疗检测、5G前端模块等产品方向。 除了投资设厂,亦有厂商通过收购获得12英寸产能。联电获准收购与富士通半导体合资的12英寸晶圆厂三重富士通全部股权,预计联电12英寸月产将增加20%以上。 半导体业内专家莫大康向记者表示,特色工艺现阶段以8英寸为主,12英寸是少数,多为成熟制程,又分代工、IDM及非硅材料,中国在8英寸代工方面有优势,但IDM竞争对手均是国际老牌大厂,优势较难突破。在非硅材料方面,我国厂商起步较晚。 随着工艺进入到90nm~55nm,12英寸相对8英寸效能更高,但挑战不小。王笑龙表示,从90nm工艺开始,12英寸晶圆切入市场。相比8英寸,12英寸生产效率更高,在产品量大时能有效降低生产成本。但12英寸产线对于工艺指标要求更高,对于原材料的要求也更高。吕芃浩也表示,12英寸特色工艺整体成本是8英寸的80%左右,但是12英寸采用的多数是新设备,前期投入很大,如果产能爬坡不顺利,可能陷入长期亏损。 现阶段,8英寸的优势仍旧明显,将与12英寸长期并存。莫大康表示,8英寸具有设备折旧期已过、工艺相对成熟稳定、设备软件升级较少受原厂控制等优势。同时,8英寸特色工艺的线宽也开始步入90nm以下,例如三星的8英寸解决方案就包括了65nm的eFlash和70nm的显示器驱动IC。未来12英寸、8英寸产能将继续增加,长期并存。

 

长尾效应带来市场机遇

 

数据显示,2020年特色工艺的驱动力为混合信号芯片、射频IC、汽车电子、MEMS传感器、MCU、图像传感器和智能卡IC。据悉,eNVM是华虹宏力2018年第一大营收来源,主要包括智能卡芯片和MCU两大类应用。同时,5G蜂窝网络的部署,将大幅提升对RF技术的需求。

 

5G、物联网、多摄像头手机等新技术、新终端,将为特色工艺市场持续注入动能。王笑龙表示,近年来特色工艺市场需求最大的变化就是需求量持续暴涨,射频通信、功率器件、MEMS、CIS、指纹和面部识别等产品对于晶圆的需求量不断增长。碳化硅大功率器件是特色工艺市场的一个重要爆发点,技术基本成熟,市场正在快速起量的临界点。吕芃浩表示,5G的商用对射频芯片需求、物联网对传感器和蓝牙芯片的需求、新能源汽车对功率器件和传感器的需求、智能手机和机器视觉对图像传感器的需求都会是未来的市场爆发点。

 

“特色工艺技术面和产品面更宽,有很多长尾化和碎片化的市场,工艺也没有绝对标准,没有一家晶圆厂能通吃所有特色工艺产品。所以,国内厂商有立足的空间。”王笑龙说。

 

近年来国内的产能建设,也在厂内设施和设备形成优势。“国外大厂由于年代久远,设备陈旧,在新兴特色工艺竞争中,中国许多新建厂具有优势。”莫大康表示。

 

我国作为全球最大的半导体市场,为特色工艺发展提供了市场机遇。吕芃浩表示,国内企业特色工艺大多聚焦中低端,导致产品同质化严重。

 

但是我国是全球最大集成电路市场,特色工艺产品与市场应用紧密结合,应用企业应在产品开发初期与特色工艺企业密切互动,加强整机与特色工艺企业的协同创新。

 

信息来源:全球半导体观察官网(www.dramx.com)

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